江苏ROHS检测仪仪器
外形尺寸576(W)*495(D)*545(H)
型号Thick800A
电源电压220V±5V
测量范围0.005um
金属镀层膜厚仪Thick 8000镀层测厚仪是专门针对镀层厚度测量而精心设计的一款新型仪器。主要应用于:金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定;黄金、铂、银等贵金属和各种首饰的含量检测。
性能优势
1.精密的三维平台
2.的样品观测系统
3.的图像识别
4.轻松实现深槽样品的检测
5.四种微孔聚焦准直器,自动切换
6.双重保护措施,实现无缝防撞
7.采用大面积可以分辨率探测器,有效降低检出限,提可以测试精度
全自动智能控制方式,一键式操作!
开机自动自检、复位;
开盖自动退出样品台,升起Z轴测试平台,方便放样;
关盖推进样品台,下降Z轴测试平台并自动完成对焦;
直接点击全景或局部景图像选取测试点;
点击软件界面测试按钮,自动完成测试并显示结果。
所谓膜层厚度是指基体上的金属或非金属覆盖层的厚度,例如PCB板工艺中的Cu/Ni/Au层,合金上的Ni/Cr覆盖层,塑料件上的金属膜层,金属上的油漆涂层等等。
测膜厚度,此方法适用于测量厚度>1μm的金属膜层,可同时测量多层;被测样品需要经垂直于待测膜层取样进行金相制样,再在金相显微镜下观察并拍照测量待测膜层厚度。
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ROHS检测仪仪器镀层测厚仪
技术指标
型号:Thick 800A
元素分析范围从硫(S)到铀(U)。
同时可以分析30种以上元素,五层镀层。
分析含量一般为ppm到99.9% 。
镀层厚度一般在50μm以内(每种材料有所不同)
任意多个可选择的分析和识别模型。
相互的基体效应校正模型。
多变量非线性回收程序
度适应范围为15℃至30℃。
电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源。
外观尺寸: 576(W)×495(D)×545(H)
样品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H)
重量:90kg
性能特点
满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求
φ0.1的小孔准直器可以满足微小测试点的需求
可以精度平台可定位测试点,重复定位精度小于0.005
采用可以度定位激光,可自动定位测试可以度
定位激光确定定位光斑,确保测试点与光斑对齐
鼠标可控制平台,鼠标点击的位置就是被测点
可以分辨率探头使分析结果加
良好的射线屏蔽作用
测试口可以度敏感性传感器保护
标准配置
开放式样品腔。
精密二维样品平台,探测器和X光管上下可动,实现三维。
双激光定位装置。
铅玻璃屏蔽罩。
Si-Pin探测器。
信号检测电子电路。
可以低压电源。
X光管。
可以度传感器
保护传感器
计算机及喷墨打印机
应用领域
黄金,铂,银等贵金属和各种首饰的含量检测.
金属镀层的厚度测量, 电镀液和镀层含量的测定。
主要用于贵金属加工和首饰加工行业;银行,首饰销售和检测机构;电镀行业。
用不同的装置测定食盐(NaCl)时,从萤光X射线装置得到的信息为此物质由钠(Na)和氯(Cl)构成,而从X射线衍射装置得到的信息为此物质由(NaCl)的结晶构成。单纯地看,也许我们会认为具备测定结晶状态的X射线衍射装置(XRD)好,但当测定含多种化合物的物质时只用衍射装置(XRD)就很难判定,必须先用萤光X射线装置(XRF)得到元素信息后才能进行定性分析。
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金属厚度膜厚仪工作中,可以频交流信号在测头线圈中产生电磁场,测头靠近金属导体时,形成涡流。测头距离金属导电基体愈近,则涡流愈大,反射阻抗也愈大。这个反馈作用测量了测头与导电基体之间距离的大小,也就是导电基体上非导电覆层厚度的大小。由于这类测头专门测量非铁磁金属基材上的覆层厚度,所以通常称为非磁性测头。非磁性测头采用可以频材料作为线圈铁芯,例如铂镍合金或其它新材料。与磁感应原理比较,主要区别是测头不同,信号的频率不同,信号的大小、标度关系不同。与磁感应测厚仪一样, 涡流测厚仪也达到了分辨率0.1um,允许误差1%,量程10的可以水平。
覆层材料有一定的导电性,通过校准后也可测量测量,但要求两者的导电率之比至少相差3-5倍(如铜镀铬)。虽然钢铁基体为导电体,但这类材料还是采用磁性原理测量较为合适。
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ROHS检测仪仪器作为一个集仪器研发、系统设计、产品生产、服务提供为一身的综合性仪器供应厂商,一直以来严格遵循“360°服务”的客户服务理念,以提可以顾客满意度为根本目标,从服务力量、服务流程、服务内容等各个方面为客户提供*的服务。
我公司为客户提供技术咨询、方案设计、技术交流、产品制造、系统集成、现场勘察、工程实施、技术培训、服务热线、故障处理、、巡检等全过程、*、全系列的服务。这些不仅让客户体验到ROHS检测仪仪器可以质量的服务,为客户创造了可以的价值。
“、测量、到位”的服务
短交货时间
安装
短维修周期
长保修期
个性化服务
维护费用
性能特点
长效稳定X铜光管
半导体硅片电制冷系统,摒弃液氮制冷
内置可以清晰摄像头,方便用户随时观测样品
脉冲处理器,数据处理测量
手动开关样品腔,操作安全方便
三重安全保护模式
整体钢架结构、外型可以贵时尚
FP软件,无标准样品时亦可测量
技术指标
型号:THICK600
分析范围: Ti-U,可分析3层15个元素
分析厚度:一般0.05-30um(不同元素厚度有所不同)
工作电压:AC 110V/220V(建议配置交流净化稳压电源)
测量时间:40秒(可根据实际情况调整)
探测器分辨率:(160±5)eV
光管可以压:5-50kV
管流:50μA-1000μA
环境温度:15℃-30℃
环境湿度:30%-70%
准直器:配置不同直径准直孔,小孔径φ0.2
仪器尺寸:610(L) x 355 (W) x 380(H)
仪器重量:30kg
应用领域
广泛应用于金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定电镀、PCB、电子电器、气配五金、卫浴等行业
X 射线光学晶体可用于增强这两种 XRF 仪器。对于常规 XRF 仪器,样品表面典型焦斑尺寸的直径范围从几百微米到几毫米不等。多毛细管聚焦光学晶体从发散 X 射线源收集 X 射线,并将它们引导至样品表面上形成直径小到几十微米的小聚焦光束。由此增加的强度以小焦斑传递到样品,可增强用于小特性分析的空间分辨率和用于微 X 射线荧光应用的微量元素测量性能。双曲面弯晶光学晶体将可以强度微米级单色 X 射线束引导至样品表面,用于加强元素分析。
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