含量检测精度＜1%
外形尺寸576（W）*495（D）*545（H）
型号Thick800A
电源电压220V±5V
测量范围0.005um
金属厚度膜厚仪工作中，高频交流信号在测头线圈中产生电磁场，测头靠近金属导体时，形成涡流。测头距离金属导电基体愈近，则涡流愈大，反射阻抗也愈大。这个反馈作用测量了测头与导电基体之间距离的大小，也就是导电基体上非导电覆层厚度的大小。由于这类测头测量非铁磁金属基材上的覆层厚度，所以通常称为非磁性测头。非磁性测头采用高频材料作为线圈铁芯，例如铂镍合金或其它新材料。与磁感应原理比较，主要区别是测头不同，信号的频率不同，信号的大小、标度关系不同。与磁感应测厚仪一样， 涡流测厚仪也达到了分辨率0.1um，允许误差1%，量程10的高水平。
覆层材料有一定的导电性，通过校准后也可准确测量，但要求两者的导电率之比至少相差3-5倍（如铜镀铬）。虽然钢铁基体为导电体，但这类材料还是采用磁性原理测量较为合适。
Thick800A是集多年的经验，研发用于镀层行业的一款仪器，可全自动软件操作，可多点测试，由软件控制仪器的测试点，以及平台。是一款功能强大的仪器，配上为其开发的软件，在镀层行业中可谓大展身手。
性能特点
满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求
φ0.1的小孔准直器可以满足微小测试点的需求
高精度平台可定位测试点，重复定位精度小于0.005
采用高度定位激光，可自动定位测试高度
定位激光确定定位光斑，确保测试点与光斑对齐
鼠标可控制平台，鼠标点击的位置就是被测点
高分辨率探头使分析结果更加
良好的射线屏蔽作用
测试口高度敏感性传感器保护
技术指标
型号：Thick 800A
元素分析范围从硫(S)到铀（U）。
同时可以分析30种以上元素，五层镀层。
分析含量一般为ppm到99.9% 。
镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）
任意多个可选择的分析和识别模型。
相互的基体效应校正模型。
多变量非线性回收程序
度适应范围为15℃至30℃。
电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源。
外观尺寸： 576(W)×495(D)×545(H)
样品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H)
重量：90kg
膜厚仪的使用
测定准备
（1）确保电池正负方向正确无误后设定。
（2）探头的选择和设定：在探头上有电磁式和涡电流式2种类型。对准测定对象，在本体上进行设定。
X射线的能量穿过金属镀层的同时，金属元素其电子会反射其稳定的能量波谱。通过这样的原理，设计出膜厚测试仪，又称金属镀层厚度测量仪，其不同之处为其既是薄膜厚度测试仪，也是薄膜表层金属元素分析仪，因响应**环保工艺准则，故目前市场上普遍使用的都是无损薄膜X射线荧光镀层测厚仪。
台式的荧光X射线膜厚测试仪，是通过一次X射线穿透金属元素样品时所产生低能量的光子，俗称为二次荧光，,再通过计算二次荧光的能量来计算厚度值
EDX 600是研发的一款下照式结构的镀层测厚仪 。不仅能测量各种常规形状的镀层产品，而且对于各种不易测量的异型件也有表现。可广 泛应用于光伏行业、五金卫浴、电子电气、航空航天、磁性材料、汽车行业、通讯行业等领域。
技术指标
1元素分析范围：从钾（K）到铀（U）
测量对象：固体、液体、粉末
分析检出限可达：1ppm
分析含量一般为：1ppm到99.9%
多次测量重复性可达：0.1%
长期工作稳定性为：0.1%
外观尺寸：430×380×355
样品腔尺寸：306×260×78
重量：30kg
2、标准配置
单样品腔。
正比计数盒探测器
信号检测电子电路
高低压电源
X光管
3、性能优势
贵金属检测、镀层厚度检测
智能贵金属检测软件，与仪器硬件相得益彰
任意多个可选择的分析和识别模型
相互的基体效应校正模型
多变量非线性回收程序
X射线衍射装置(XRD)能得到某物质中的结晶信息，测定晶体结构。
萤光X射线装置(XRF)能得到某物质中的元素信息（物质构成,组成和镀层厚度），元素的定性、定量分析
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