含量检测精度<1%
外形尺寸576(W)*495(D)*545(H)
型号Thick800A
电源电压220V±5V
测量范围0.005um
金属厚度膜厚仪利用磁性法都要求涂层为非磁性涂层,尚未发现有利用该方法的涂层测厚产品是针对磁性涂层的。在国家标准GB/T 4957-2003《非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度测量涡流方法》(与国际标准IS02360-2003对应)中,对涡流测厚仪的标准,操作程序和影响测量精度的因素及其注意事项作了详细的阐述。其中有关影响测量精度因素的条款,应视作涡流涂层测厚仪开发应用必须遵循的性文件。
仪器及其校准和操作应使覆盖层厚度能测准到真实厚度的10%以内。如果测量小于 5μm的覆盖层厚度,推荐取几次读数的平均值。覆盖层厚度小于 3μm时,可能达不到这样的准确度。
我公司为客户提供技术咨询、方案设计、技术交流、产品制造、系统集成、现场勘察、工程实施、技术培训、服务热线、故障处理、、巡检等全过程、、全系列的服务。
“kuaisu、准确、到位”的服务
短交货时间
快安装
短维修周期
长保修期
个性化服务
维护费用
技术指标
分析元素范围:从硫(S)到铀(U)
同时检测元素:多24个元素,多达五层镀层
检出限:可达2ppm,薄可测试0.005μm
分析含量:一般为2ppm到99.9%
镀层厚度:一般在50μm以内(每种材料有所不同)重复性:可达0.1%
稳定性:可达0.1%
SDD探测器:分辨率低至135eV
采用的微孔准直技术,小孔径达0.1,小光斑达0.1
样品观察:配备全景和局部两个工业高清摄像头
准直器:0.3×0.05、Ф0.1、Ф0.2与
Ф0.3四种准直器组合
仪器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)
样品室尺寸:520(W)x 395(D)x150(H)
样品台尺寸:393(W)x 258 (D)
X/Y/Z平台速度:额定速度200/s 速度333.3/s
X/Y/Z平台重复定位精度 :小于0.1um
操作环境湿度:≤90%
操作环境温度 15℃~30℃
性能优势
精密的三维平台
的样品观测系统
的图像识别
轻松实现深槽样品的检测
四种微孔聚焦准直器,自动切换
双重保护措施,实现无缝防撞
采用大面积高分辨率探测器,有效降低检出限,提高测试精度
全自动智能控制方式,一键式操作!
开机自动退出自检、复位
开盖自动退出样品台,升起Z轴测试平台,方便放样
关盖推进样品台,下降Z轴测试平台并自动完成对焦
直接点击全景或局部景图像选取测试点
点击软件界面测试按钮,自动完成测试并显示测试结果
金属膜厚仪主要性能:
可测量电镀、蒸镀、离子镀等各种金属镀层的厚度。
可通过CCD摄像机来观察及选择任意的微小面积以进行微小面积镀层厚度的测量,避免直接接触或破坏被测物。
薄膜FP法软件是标准配置,可同时对多层镀层及全金镀层厚度和成分进行测量。此外,适用于无铅焊锡的应用。
备有250种以上的镀层厚度测量和成分分析时所需的标准样品。
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性能特点
长效稳定X铜光管
半导体硅片电制冷系统,摒弃液氮制冷
内置高清晰摄像头,方便用户随时观测样品
脉冲处理器,数据处理快速准确
手动开关样品腔,操作安全方便
三重安全保护模式
整体钢架结构、外型高贵时尚
FP软件,无标准样品时亦可测量
技术指标
测量元素范围:19钾K~92铀U之间的元素均可测量
同时检测镀层及元素:可同时分析5层以内镀层
检出限:金属镀层分析薄可达0 .01μm
厚度范围:分析镀层厚度一般在50μm以内(每种材质有所不同)
厚度测试标准偏差:<5%
含量测试范围:1%--99%
含量检测精度:<1%
含量稳定性:多次测量重复性可达1%
检测时间:5-40秒
高压单元:进口大功率高压单元
信号采集:大窗口正比计数器
X射线装置:100W高功率微聚光W靶光管
多道分析器:DMCA数字多道分析技术,分析道数1096道
准直器标配:标配Φ0.5mm;选配 Φ0.3mm
小测试直径:Ф0.38mm
样品观察:工业级高敏感摄像头, 图像可放大30倍, 实现微小样品清晰定位
样品移动平台:手动高精度移动平台
对焦:手动测距对焦
分析方法:FP法与EC法兼容的镀层厚度分析方法
安全性:平台的凸出设计, 开盖停止保护, 多重金属及铅玻璃防止, **用户安全
外型尺寸:497(W)×427(D)×478(H)mm
样品室尺寸:415(W)×374(D)×218(H)mm
平台移动范围:50mm
操作环境温湿度:0~30℃, 湿度≤70%
工作电源:交流220±5V
应用领域
广泛应用于金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定电镀、PCB、电子电器、气配五金、卫浴等行业
X 射线光学晶体可用于增强这两种 XRF 仪器。对于常规 XRF 仪器,样品表面典型焦斑尺寸的直径范围从几百微米到几毫米不等。多毛细管聚焦光学晶体从发散 X 射线源收集 X 射线,并将它们引导至样品表面上形成直径小到几十微米的小聚焦光束。由此增加的强度以小焦斑传递到样品,可增强用于小特性分析的空间分辨率和用于微 X 射线荧光应用的微量元素测量性能。双曲面弯晶光学晶体将高强度微米级单色 X 射线束引导至样品表面,用于加强元素分析。
EDX 600是研发的一款下照式结构的镀层测厚仪 。不仅能测量各种常规形状的镀层产品,而且对于各种不易测量的异型件也有表现。可广 泛应用于光伏行业、五金卫浴、电子电气、航空航天、磁性材料、汽车行业、通讯行业等领域。
技术指标
1元素分析范围:从钾(K)到铀(U)
测量对象:固体、液体、粉末
分析检出限可达:1ppm
分析含量一般为:1ppm到99.9%
多次测量重复性可达:0.1%
长期工作稳定性为:0.1%
外观尺寸:430×380×355
样品腔尺寸:306×260×78
重量:30kg
2、标准配置
单样品腔。
正比计数盒探测器
信号检测电子电路
高低压电源
X光管
3、性能优势
贵金属检测、镀层厚度检测
智能贵金属检测软件,与仪器硬件相得益彰
任意多个可选择的分析和识别模型
相互的基体效应校正模型
多变量非线性回收程序
X射线衍射装置(XRD)能得到某物质中的结晶信息,测定晶体结构。
萤光X射线装置(XRF)能得到某物质中的元素信息(物质构成,组成和镀层厚度),元素的定性、定量分析
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