含量检测精度<1%
外形尺寸576(W)*495(D)*545(H)
型号Thick800A
电源电压220V±5V
测量范围0.005um
电镀是国民经济中必不可少的基础工艺性行业,同时又是重污染行业。电镀所带来的废气、废水、废渣严重地影响人们的生活与健康。要提高电镀企业的实力就必须从企业的硬件着手。而内部管控测试是必不可少的环节,其中产品膜厚检测、RoHS有害元素检测、电镀液分析、电镀工业废水、废渣中的重金属检测和水质在线检测等更是重中之重。
镀层膜厚检测:有效进行镀层厚度的产品质量管控
电镀液分析:检测电镀液成分及浓度,确保镀层质量
水质在线监测:有效监测电镀所产生的工业废水中的有害物质含量,已达到排放标准
RoHS有害元素检测:为电镀产品符合RoHS标准,严把质量关
重金属及槽液杂质检测:有效检测电镀成品,以及由电镀所产生的工业废水、废物中的重金属含量
能量色散X荧光光谱仪系列在电镀检测行业中, 针对上述五项需求的应用:
(1)、对镀层膜厚检测、电镀液分析可分析;
(2)、对RoHS有害元素检测、重金属检测、槽液杂质检测、水质在线监测可进行快速检测,检测环境里的重金属是否**标。
同时具有以下特点
快速:1分钟就可以测定样品镀层的厚度,并达到测量精度要求。
方便:X荧光光谱仪部分机型采用进口国际上的电制冷半导体探测器,能量分辨率更优于135eV,测试精度更高。并且不用液氮制冷,不用定期补充液氮,操作使用更加方便,并且运行成本比同类的其他产品更低。
无损:测试前后,样品无任何形式的变化。
直观:实时谱图,可直观显示元素含量。
测试范围广:X荧光光谱仪,是一种物理分析方法,其分析与样品的化学结合状态无关。对在化学性质上属同一族的元素也能进行分析,抽真空可以测试从Na到U。
可靠性高:由于测试过程无人为因素干扰,仪器自身分析精度、重复性与稳定性很高。所以,其测量的可靠性更高。
SEM测膜厚度,此方法测试范围宽,适用于测量厚度0.01μm~1的金属或非金属膜层;
样品前处理与金相测厚相同,配有能谱附件(EDS)的SEM设备可以确定每一层膜层的成分。
金属厚度膜厚仪,涂层厚度直接影响电泳涂装的许多性能:一方面,促进腐蚀蔓延的物质(如水和氧)随着涂层厚度的增加,其渗透作用被屏蔽得越多;另一方面,涂层厚度过厚,则影响涂层的机械性能。解决方法是在涂装工艺中将漆膜厚度有效控制在小的允许容差范围内。传统接触式测厚仪的重复性只有1~2 µm,很难达到微米级的允许容差范围。一般而言,使用测量设备的重复性应是允许容差范围的1/40。例如,某一涂层厚度的允许容差范围是4 µm,则仪器的重复性要求是0.1 µm。
金属镀层膜厚仪Thick 800A镀层测厚仪是针对镀层厚度测量而精心设计的一款新型仪器。主要应用于:金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定;黄金、铂、银等贵金属和各种饰的含量检测。
性能优势
1.精密的三维平台
2.的样品观测系统
3.的图像识别
4.轻松实现深槽样品的检测
5.四种微孔聚焦准直器,自动切换
6.双重保护措施,实现无缝防撞
7.采用大面积高分辨率探测器,有效降低检出限,提高测试精度
全自动智能控制方式,一键式操作!
开机自动自检、复位;
开盖自动退出样品台,升起Z轴测试平台,方便放样;
关盖推进样品台,下降Z轴测试平台并自动完成对焦;
直接点击全景或局部景图像选取测试点;
点击软件界面测试按钮,自动完成测试并显示结果。
所谓膜层厚度是指基体上的金属或非金属覆盖层的厚度,例如PCB板工艺中的Cu/Ni/Au层,合金上的Ni/Cr覆盖层,塑料件上的金属膜层,金属上的油漆涂层等等。
测膜厚度,此方法适用于测量厚度>1μm的金属膜层,可同时测量多层;被测样品需要经垂直于待测膜层取样进行金相制样,再在金相显微镜下观察并拍照测量待测膜层厚度。
EDX600是集多年镀层测厚检测技术和经验,以特的产品配置、功能齐全的测试软件、友好的操作界面来满足金属镀层及含量测定的需要,人性化的设计,使测试工作更加轻松完成。
EDX600镀层测厚仪使用而实用的正比计数盒和电制冷探测器,以实在的价格定位满足镀层厚度测量的要求,且全新的更具有现代感的外形、结构及色彩设计,使仪器操作更人性化、更方便。
性能优势
长效稳定X铜光管
半导体硅片电制冷系统,摒弃液氮制冷
采用天瑞仪器产品—信噪比增强器(SNE)
内置高清晰摄像头,方便用户随时观测样品
脉冲处理器,数据处理快速准确
手动开关样品腔,操作安全方便
三重安全保护模式
整体钢架结构、外型高贵时尚
Fp软件,无标准样品时亦可测量
3、技术指标
分析范围: Ti-U,可分析3层15个元素
分析厚度:一般0.05-30um(不同元素厚度有所不同)
分析精度:多次测量稳定性可达1%.
工作电压:AC 110V/220V(建议配置交流净化稳压电源)
测量时间:40秒(可根据实际情况调整)
探测器分辨率:(160±5)eV
光管高压:5-50kV
管流:50μA-1000μA
环境温度:15℃-30℃
环境湿度:30%-70%
准直器:配置不同直径准直孔,小孔径φ0.2
仪器尺寸:610(L)x 355(W)x 380(H)
仪器重量:30kg
XPS深度剖析,设备:X射线光电子能谱仪此方法适用于测量纳米级厚度的膜层。
XPS设备可以测试样品表面的元素成分(每次测量的信息深度为5nm左右),并且可以在样品室内直接对样品表面进行溅射,可以去除厚度(纳米级)的表层物质,这两个功能结合使用就可以测量出纳米级膜层的厚度
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